2013年1月15日 星期二

各類輻射的屏蔽設計特性與常用材料




3. 試述α粒子、β粒子、γ射線、X 光及中子等輻射的屏蔽設計特性,及其常用的屏蔽材料。(15﹪)92-2員專)3-9X光機防護屏蔽(xtubeshield)-01
α粒子:α粒子不足構成體外危害,不必使用屏蔽。
β粒子:β粒子因可能連帶產生制動輻射(連續能量的X光),所以應使用低原子序數的物質屏蔽,如鋁包在貝他射源內層,而外層使用高原子序數的物質屏蔽,如鉛。
γ射線:γ射線應使用鉛等原子序數較大的物質做屏蔽。
X :一般而言,診斷X光機的工作電壓應不大於150kVp,其主要理由是診斷X光能夠讓X光軟片的影像呈現良好對比的是根據光電效應。因為X光能量小於50KeV時,光電吸收是很重要的,光子能量介於60~90keV時,光電吸收與康普吞散射碰撞兩者是重要的,所以診斷X光機的管電壓不能太高。若診斷X光機的工作電壓設定為150kVp,而國內診斷X光室的輻射防護屏蔽厚度通常為3.0 mm Pb,依表所示,電壓峰值為150kVp時,輻射防護屏蔽的半值層HVL為0.30mmPb或2.24cm水泥,所以3.0mmPb阻擋X光的能力相當於2.24×(3.0/0.30)=22.4cm水泥。
中子:中子的屏蔽,以含氫較多的物質為宜,如水塑膠石蠟等而石墨(碳)亦為常用者。水泥為中子的常用屏蔽材料,其堅固、便宜,可做成各種形狀或大小,亦可有效屏必中子所附帶產生的γ射線。
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<α粒子>無穿透力輻射-紙
α粒子的穿透力極弱,在空氣中的射程只有1公分左右,在人體的射程只有0.001公分左右,因此體外曝露之α粒子頂多只在表皮角質層(死細胞層)造成劑量,不會造成健康傷害,故不需要任何屏蔽。
但須防範體內曝露α粒子之汙染與傷害(射質因數Q=20)

<β粒子>弱穿透力輻射-書、鋁片
β粒子的穿透力較弱(射程較短),體外曝露只會造成淺部組織(皮膚、水晶體)的劑量,輻射防護以非機率效應為主。
*β粒子的屏蔽原則為:
(1)屏蔽物質厚度必須大於β粒子的射程,以完全阻擋β粒子
(2)屏蔽物質的原子序必須很小,以減少制動輻射的產生。
*β粒子的能量(MeV)越大,屏蔽原子序數(Z)越高,制動輻射(X光)的量越多。
高能量、高通量的β粒子的屏蔽原則為:先低原子序,在高原子序
(1)使用之低原子序數(Z)物質,厚度必須大於β粒子的射程,以完全阻擋β粒子,並減少制動輻射(X光)的產生
(2)使用之高原子序數(Z)物質,可有效衰減制動輻射(X光)。

光子(<γ射線>、<X >)的屏蔽:強穿透力輻射-水泥牆、鋼鐵、鉛
*光子與物質的作用機制:光電效應(pe,τ)、康普吞效應(ce,σ)、成對效應(pp,κ)
直線衰減係數μ=τ+σ+κ
暴露X,單位為庫倫/公斤(空氣)或侖琴(R)
吸收劑量D,單位為戈雷(Gy)或雷得(rad)
等效劑量H,單位為西弗(Sv)或侖目(rem)
光電效應:經過光電效應,光子能量完全轉移給電子,光子消失了,故達到完全之屏蔽效果。
康普吞效應:經過康普吞效應後,光子被散射(能量變小、方向改變),故僅達部分之屏蔽效果。
成對效應:經過成對產生後,光子能量大部分轉移給電子,剩下兩個能量為0.51MeV的γ光子。
*光子屏蔽材料的選擇
(1)光子(γ射線或X射線)的穿透力很強,任何屏蔽都無法完全衰減光子。
(2)密度越高的屏蔽(每單位體積內的電子數越多),衰減的光子越多。例:鉛的密度比水大,所以鉛的屏蔽效果比水好。
(3)低能量X射線之屏蔽(容易產生光電效應),以高原子序數(Z)的物質為佳。
*光子屏蔽的其他考量
任何建築材料如鐵、混凝土、磚等皆可做為光子的屏蔽。但考亮了屏蔽效果、經濟性、實用性之後,最常用的屏蔽材料為鉛與混凝土。
選擇光子屏蔽材料的其他因素:
1.所需材料的厚度與重量。
2.多重用途(例如材料是否兼作屏蔽與結構雙重用途)。
3.屏蔽的均勻性。
4.屏蔽的耐久性。
5.材料花費;包括裝置與維護費用。
6.美觀。

<中子>
*中子與物質的作用機制
快中子經彈性碰撞、連續減能後,最後減速為熱中子。熱中子容易被原子核捕獲,引起(n,γ)(n,α)等核反應。
*快中子的減速
含氫物質(水、塑膠、壓克力等)減速快中子最有效。
*熱中子的捕獲
捕獲作用包括(n,γ),(n,p),(n,α)等核反應
硼原子吸收熱中子最有效10B(nth , α)7Li,硼捕獲中子治療(boron neutron capture therapy,BNCT)。

根據中子與物質的作用特性,設計屏蔽時通常需要三層不同材質的屏蔽:
第一層為低原子序物質,目的為減速快中子,水(易揮發)、石蠟(易燃)、混凝土均常被採用。
第二層為具高中子捕獲截面積者,氫、鎘、硼均常被採用,但氫、鎘捕獲中子時會釋出高能γ。
第三層通常為高原子序物質,目的為屏蔽中子捕獲時釋出的高能γ,但應避免捕獲中子後形成放射性物質。
中子的屏蔽:(1)首先需用質輕的物質將快中子合緩成慢中子,(2)再用吸收慢中子高的物質吸收慢中子,(3)最後還得考吸收慢中子後所誘發釋出加馬射線之屏蔽。



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