2013年1月15日 星期二

高能量的貝他射源屏蔽設計


2. 針對高能量的貝他射源,應如何設計屏蔽?(10%)(95-1員專)
對高能量貝他射源屏蔽的設計,必須考慮兩個因素,射源本身及屏蔽所產生之制動輻射。因此屏蔽是ㄧ個厚到足以阻擋所有貝他射源的低原子序物質(使制動輻射產生最少),緊接著是ㄧ厚到足以衰減制動輻射至可接受水平的高原子序物質。

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